关键词: 钛锻件,钛加工件,钛环,钛靶,镍靶,钛板靶,钛管靶
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fun88体育官网系列

Ni镍靶/镍块

发布时间:2020/07/10 点击量:

1、 名称:镍fun88体育官网、镍旋转靶,镍平面靶,镍多弧靶

2、 牌号:N6, N4

3、 用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层玻璃镀膜工业等。


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镍靶

镍靶
镍靶
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镀膜fun88体育官网是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,fun88体育官网就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的fun88体育官网相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。例 镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、铬靶Cr、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铝靶Al、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶ZrAl、钛铝靶TiAl、锆靶Zr、铝硅靶AlSi、硅靶Si、铜靶Cu、钽靶Ta、锗靶Ge、银靶Ag、钴靶Co、金靶Au、钆靶Gd、镧靶La、钇靶Y、铈靶Ce、不锈钢靶、镍铬靶N1)磁控溅射原理:

在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在fun88体育官网料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,如今,常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。iCr、铪靶Hf、钼靶Mo、铁镍靶FeNi、钨靶、W等。如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的fun88体育官网(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
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